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1200℃五温区双通道混气高真空 CVD系统 OP-1200-T5Z2G(一 体机)

OP-1200-T5Z2G(一体机)是一款1200℃ 五温区双通道混气高真空CVD系统 ,主要用于半导体、光电子、纳米材料等领域的薄膜沉积。

技术资料

相关产品

应用领域

1、电子行业: 用于制备各种金属薄膜、氧化物薄膜、导电膜等:

2、半导体行业: 用于制备多层膜、二氧化硅薄膜、氮化物薄膜等

3、光学行业: 用于制备各种光学薄膜、增透膜、反射膜等,其他领域:如生物医学、新能源材料等领域也有广泛的应

产品特点

1、高效率: 采用CVD气相沉积技术,可以在短时间内实现高质量的薄膜沉积,

2、精准控制:通过调节气体流量、温度、压力等参数,可以实现对沉积速度和沉积厚度的精准控制

3、可定制性:可根据客户需求,定制不同的沉积模板和沉积条件,以满足不同材料的制备要求

4、操作简便:自动化控制系统和友好的人机界面,使得操作更加简单方便

加热炉参数

功率:380V 10KW / 15KW

炉膛材质:高纯氧化铝多晶纤维材料+氧化铝涂层材料

炉膛结构:双层壳体加风冷隔热

加热元件:进口HRE高温合金电阻丝

可达温度:1200℃(<1小时)

连续温度:1150℃(连续)

温度精度:±1℃

热电偶:K型热电偶(5根)

推荐升温速率:≤20℃/分钟

加热区尺寸:200mm*5或300mm*5

炉管与法兰

标配Φ60*1600mm高纯石英管一根,可选配Φ50/Φ80/Φ100*1600mm的石英管

标配一套不锈钢密封法兰;采用硅胶密封圈密封,包含铠装测温接口(Φ8m)漏率达5X10-9 Pam3/s;

采用带有减震油的机械压力表,使压力波动时产生阻尼,减小指针来回摆动

选配KF25或KF40接头

真空系统

真空度:采用分子泵组可达到5*10-3Pa(标配)

1. 机械泵:

抽气速率:4L/S;

电机功率:400W;

极限压强6X10-2Pa

2. 分子泵:

抽气速率:100L/S;

极限压强:6X10-6Pa;

额定转速:43000转/分;

冷却方式::风冷/水冷

3. 分子泵控制电源:

电压:220V;

输出功率 50W;

输出频率:高速704Hz±10%; 低速430 Hz±10%

4. 复合真空计:

工作电电压:220V   50~60HZ;

电阻规阻值:约85 欧;

自动保护(电离)>10Pa;

电离规管测量范围:100~1.0*10-5Pa;

电阻规管测量范围:105 ~10-1 pa;

5. 高真空手动隔断阀:

采用氟胶圈密封,快卸法兰接口,漏率达5X10-9 Pam3/s

6. 连接管路

采用全不锈钢,电抛光制作,零件焊接漏率优于1×10-9Pa.m3/s

供气系统

设备含两路进口品牌质量流量计(量程50/100/200/500/1000SCCM可选)

精度:FS1%

接口尺寸Φ6.35mm双卡套接头

连接管道采用洁净抛光的气路专用耐腐不锈钢管

接口尺寸:6.35mm双卡套连接

金属管路:材质:SUS316 φ外:6.35mm φ内:4mm

控制系统可预存15条温度曲线,避免不同的实验工艺重复设置带来的麻烦
工艺存储界面.jpg程序设置.png
嵌入式操作系统中英文互换图形界面,7寸真彩触屏输入,智能式人机对话模式实验过程更加直观,操作更加便捷;
实时界面.png

非线性式样温度修正;具有预约启动功能
非线性温度修正.jpg预约界面.png
具有超温报警、断偶提示、漏电保护等功能
热电偶断线.jpg温区超温.jpg
产品尺寸1800mm*1260mm*760mm
重量 kg
质保

一年保修,终身技术支持。

特别提示:1.耗材部分如加热元件,炉管,样品坩埚等不包含在内。

                 2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。