1200℃双温区双通道混气高真空 CVD系统OP-1200-T2Z2G(一体 机)

产品特点

1、高效率: 采用CVD气相沉积技术，可以在短时间内实现高质量的薄膜沉积，

2、精准控制:通过调节气体流量、温度、压力等参数，可以实现对沉积速度和沉积厚度的精准控制

3、可定制性:可根据客户需求，定制不同的沉积模板和沉积条件，以满足不同材料的制备要求

4、操作简便:自动化控制系统和友好的人机界面，使得操作更加简单方便

加热炉参数

功率：220V 4KW

炉膛材质：高纯氧化铝多晶纤维材料+氧化铝涂层材料

炉膛结构：双层壳体加风冷隔热

加热元件：进口HRE高温合金电阻丝

可达温度：1200℃（<1小时）

连续温度：1150℃（连续）

温度精度：±1℃

热电偶:K型热电偶(1根）

推荐升温速率：≤20℃/分钟

加热区尺寸：200+200（400mm）

标配Φ60*1000mm高纯石英管一根，可选配Φ50/Φ80/Φ100*1000mm的石英管

标配一套不锈钢密封法兰;采用硅胶密封圈密封,包含铠装测温接口（Φ8m）漏率达5X10^-9 Pam3/s；

采用带有减震油的机械压力表，使压力波动时产生阻尼，减小指针来回摆动

选配KF25或KF40接头

真空系统

真空度：采用分子泵组可达到5*10^-3Pa（标配）

1. 机械泵：

抽气速率：4L/S;

电机功率：400W;

极限压强6X10^-2Pa

2. 分子泵：

抽气速率：100L/S;

极限压强：6X10^-6Pa;

额定转速：43000转/分;

冷却方式:：风冷/水冷

3. 分子泵控制电源:

电压：220V;

输出功率 50W;

输出频率：高速704Hz±10%; 低速430 Hz±10%

4. 复合真空计:

工作电电压：220V   50~60HZ;

电阻规阻值：约85 欧;

自动保护（电离）>10Pa;

电离规管测量范围：100~1.0*10^-5Pa;

电阻规管测量范围：105 ～10^-1 pa;

5. 高真空手动隔断阀:

采用氟胶圈密封，快卸法兰接口，漏率达5X10^-9 Pam3/s

6. 连接管路

采用全不锈钢，电抛光制作，零件焊接漏率优于1×10^-9Pa.m3/s

供气系统

▪ 两通道进口品牌质量流量计控制系统可实现气体流量的精确控制（精确度：±0.01%）；

▪ 量程可选范围:（50/100/200/500/1000SCCM）

▪ 压差范围：0.05-0.4MPa

▪ 精度：±1% FS

▪ 重复精度：±0.2% FS

▪ 气体进出口配件：Φ6.35mm的聚四氟管或不锈钢管；

▪ 不锈钢针阀用于手动控制气体进出；

▪ 集成式PLC触摸屏可以统一简便地进行气体流量设置。

一年保修，终身技术支持。

特别提示：1.耗材部分如加热元件，炉管，样品坩埚等不包含在内。

                 2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。