浏览次数:679

1200℃ PECVD等离子体化学气相 沉积系统 OP-1200-TS-Z4D-PE

OP-1200-TS-Z4D-PE是一款单温区1200℃的等离子体化学气相沉积系统,该设备由射频电源、1200℃单温区管式炉、多通道质子混气系统和真空系统组成。此款PECVD系统可广泛应用于生长纳米线、石墨烯及薄膜材料领域。


技术资料

相关产品


产品特点

 炉衬采用高纯氧化铝轻质纤维材料,保温效果更好,节能降耗;

   滑轨式可快速加热和快速冷却;

 射频电源可实现等离子增强,从而显著降低实验温度;

 四通道进口品牌质子流量计控制系统可以对气体的输送进行精确的调控;

 触摸屏操作,直观显示温度曲线等设置参数;

 数据存储功能(无纸记录功能),可保存烧结的重要参数;

具有全程非线性温度修正,预约启动功能,节约烧结时间;

 具有物联网功能(WIFI),可通过手机、电脑远程对设备进行监控,操作

 可在温度范围较大的条件下制备材料,如碳、ZnO纳米管或纳米线及单层石墨烯等。

加热炉参数

 最高工作温度:1200℃(<30min

 连续使用温度:1150℃;

 控温精度:±1

 炉膛尺寸:150*200mm

 炉管尺寸:Φ80*1200mm

 PID触屏温度控制器及30段可编程温控系统,带有超温和断偶保护

 输入电源: 208-240V 4KW

 内炉膛表面涂有高温氧化铝涂层,可以提高设备加热效率及反射率,同时延长仪器的使用寿命

 注意:炉管为损耗材料,购买前请与我们销售确定炉管相关事宜

射频电源

 我公司现有300W500W功率的射频电源可供选择,以满足不同实验条件的需求。

输出功率:300/500W可调(稳定性:±1%

射频频率:13.56 MHz(稳定性:±0.5%

匹配模式:自动匹配

噪音:50dB

冷却方式:风冷

真空系统

 采用VRD-16的双旋真空泵;

 KF25卡箍及波纹管用于连接管式炉与真空泵;

 真空度可达10-1Pa

搭配VRD-16的双旋真空泵(抽速4.4L/s)(总进气量小于150sccm,该泵可以达到等离子发生真空度)

搭配VRD-30双旋真空泵(抽速8.3L/s)(总进气量1L/min,该泵可以达到等离子发生真空度)

供气系统

 四通道进口品牌质量流量计控制系统可实现气体流量的精确控制(精确度:±0.01%);

 流量范围:

一路0-100 sccm 

二路0-200 sccm

三路0-200 sccm

四路0-500 sccm

 电压:208-240V, AC, 50/60Hz

 气体进出口配件:Φ6.35mm的聚四氟管或不锈钢管;

 不锈钢针阀用于手动控制气体进出;

 集成式PLC触摸屏可以统一简便地进行气体流量设置。

控制系统可预存15条温度曲线,避免不同的实验工艺重复设置带来的麻烦
工艺存储界面.jpg程序设置.png
嵌入式操作系统中英文互换图形界面,7寸真彩触屏输入,智能式人机对话模式实验过程更加直观,操作更加便捷;
PECVD界面.jpg
非线性式样温度修正;具有预约启动功能
非线性温度修正.jpg预约界面.jpg


温区超温.jpg热电偶断线.jpg
产品尺寸1500×1350×830mm
重量360kg
质保

 一年质保期,终身维护(不包括炉管、硅胶密封圈和加热元件)

 因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。