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Cu晶体

普若菲特公司提供的金属基片,包括多晶和单晶金属。单晶铜被广泛应用于基质金属,合金薄膜材料和生物材料。

技术资料

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产品名称

铜(Cu)单晶

技术参数

晶体结构:立方晶系

晶格常数:a=3.605Å

纯度:>99.99%

密度:8.93g/cm3

熔点:1083℃

沸点:2567°C

生长方法:提拉法或布里奇曼法

硬度  :3(Mohs)                                           

产品规格

常规晶向:

晶向公差:±2°

常规尺寸:10x10x0.5mm;10x5x0.5mm、5x5x0.5mm

抛光情况:细磨、单抛、双抛

抛光面粗糙度:< 100A

注:尺寸及方向可按照客户要求定做

晶体缺陷

人工金属单晶存在常见晶体缺陷,表面可能会有小黑点,微小气泡等

标准包装

1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装

储存须知

由于金属单晶极易氧化,请于真空储藏,1个月内使用