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最高温度 1200/1500/1700
控制界面 全触屏
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产品参数
最高温度
1200/1500/1700
控制界面
全触屏
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产品详情

化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法,是半导体工业中应用非常广泛的用来沉积薄膜材料的技术,包括大范围的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的CVD镀膜系统,适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域。

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设备配置

1.炉体与控制系统集成一体化,使试验方便快捷直观。

2.配置浮子流量计或质量流量计混气气路,可以单独设置气体流量。

3.精确PID程序多段控制,实现不同工艺多段温度时间监控。

4.炉衬采用高纯氧化铝轻质纤维材料,保温效果极佳。

5.配备机械泵或分子真空泵,可以实现不同的真空条件。


设备参数

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