产品详情
化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用非常广泛的用来沉积薄膜材料的技术，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的CVD镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域。
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设备配置
1、炉体与控制系统集成一体化，使试验方便快捷直观。
2、配置浮子流量计或质量流量计混气气路，可以单独设置气体流量。
3、精确PID程序多段控制，实现不同工艺多段温度时间监控。
4、炉衬采用高纯氧化铝轻质纤维材料，保温效果极佳。
5、配备机械泵或分子真空泵，可以实现不同的真空条件。
设备参数
