浏览次数:293

氟化镧(LaF3)晶体基片

氟化镧(LaF3)晶体基片广泛应用于红外窗口和紫外窗口,棱镜基片。

技术资料

相关产品

产品名称

LaF3晶体基片

技术参数

晶体结构:三方晶系

晶格常数: a=7.190 Å   c=7.367 Å

纯度:99.99%

密度:5.936 g/cm3

硬度:4.5 Mohs

熔点:1493℃

生长方向:<0001>

热膨胀系数:11.9  x10-6/ K // c  15.8  x10-6/ K // a   

热导率:5.1 W / m.k @ 300K

光传输范围:Up to 10.5 micron wavelength 

折射率 no : 1.63   ne: 1.597  

生长方法:提拉法

产品规格

常规晶向: <10-10>、<11-20>、<0001> 

常规尺寸:10x10x0.5mm

抛光情况:单抛、双抛

标准包装

1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装

晶体缺陷

人工生长单晶有可能存在晶体内部缺陷。