技术资料
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| 产品名称 | 磷化铟(InP)晶体基片 |
| 技术参数 | 晶体结构:立方晶系 晶格常数: a =5.4505 Å 掺杂:None;Sn;S;Fe:Zn 密度:4.81g/cm3 硬度:3 Mohs 导电类型:N;N;N;Si;P 折射率:3.45 载流子浓度:1-2x1016 1-3x10181-4x1018 .6-4x1018 位错密度:<5x104 cm-2 生长方法:LEC 熔点:1062℃ 弹性模量:7.1E11dyn cm-2 |
| 产品规格 | 常规晶向: <100> <111> 常规尺寸:2"x0.5mm 10x10x0.5mm 抛光情况:单抛 表面粗糙度:<15A 注:尺寸及方向可按照客户要求定做。 |
| 晶体缺陷 | 人工金属单晶存在常见晶体缺陷,表面可能会有小黑点,微小气泡等 |
| 标准包装 | 1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装 |