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Fe:LiNbO3晶体

Fe:LiNbO3晶体是一种很好的光折变材料,具有很高的光折变性,理想的电光性能和化学机械性能,广泛用于全息存储,光学存储和信息加工等研发和器件应用领域。普若菲特采用提拉法生长晶体,可获得低成本,大尺寸,全极化,高光学质量的晶体和基片,选择不同的掺杂浓度可适应不同客户的需求。

技术资料

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产品名称

Fe:LiNbO3  掺铁铌酸锂晶体基片

技术参数

晶体结构:三方晶系

晶格常数:a=5.148Å   c=13.863 Å  

纯度:99.99%

密度:4.64 g/cm3 

掺杂浓度:0.05%

熔点:1255℃ (Tc=1140 )

介电常数:85 (e11)

生长方法:提拉法(CZ法)

硬度(Mohs)5

产品规格

常规晶向

晶向公差:±0.5°

内常规尺寸:10x10x0.5mm, 10x5x0.5mm,5x5x0.5mm  

抛光面粗糙度:Ra<5A

注:尺寸及方向可按照客户要求定做。

晶体缺陷

人工生长单晶有可能存在晶体内部缺陷。

标准包装

1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装